Patente

• Th. Schimmel, O. Marti:  Lubrication by Exposure to Light. US-Patent 12/064.025.
• Th. Schimmel, S. Pancera-Montero, H. Gliemann:
  Method for structuring a layer onto a substrate.
  Patent EP 1959298B1 (16.06.2010).
• S. Walheim, R. Gröger, Th. Schimmel:
  Die for Micro-Contact Printing.
  Patent EP 2150854A1 (10.02.2010) und
  US 02010 01007907A1 Patent erteilt 10/2014.
• S. Walheim, Th. Schimmel, M. Barczewski, M. Mayor, A. Blaszczyk:
  Method for producing an organometallic layer.
  Patent US 8222141 B2 (21.06.2010)
  Patent erteilt 17.07.2012.
• S. Lenhert, F. Brinkmann, T. Laue, S. Walheim, Th. Schimmel, H. Fuchs:
  Sensing Element based on micro and nanostructured liquid crystalline lipid multilayers.
  DE 10 2009 019 717.6  und (2010) PCT Anmeldung.
• S. Walheim, M. Barczewski, M. Mayor, A. Blasczcyk, Th. Schimmel:
  Verfahren zur Herstellung einer metallorganischen Schicht, mit diesem Verfahren hergestellte metallorganische Schichten und deren Verwendung.
  Patent DE-OS 10 2005025693 (18.06.2009) und
  PCT/EP2006/004704 (18.06.2009).
  
• Th. Schimmel, O. Marti:
  Photolubrikation.
  veröffentlicht unter WO2007/020102 –
  Patentanmeldung 22.02.2007.
• M. Müller, Th. Schimmel:
  Method and device for determining material properties.
  PCT Patentanmeldung, veröffentlicht unter WO2006/097800 A2,
  Patentanmeldung 21.09.2006.
• S. Walheim, M. Barczewski, M. Mayor, A. Błaszczyk, Th. Schimmel:
  Verfahren zur Herstellung einer metallorganischen Schicht.
  PCT - Patentammeldung: PCT/EP2006/004704
  Patentanmeldung: 18. Mai 2006
• H. Gliemann, S. M. Pancera, Th.Schimmel;
  Methode zur Mikro- und Nanostrukturierung.
  Patentanmeldung 16.10.2006
• S. Walheim, M. Barczewski, M. Mayor, A. Błaszczyk, Th. Schimmel:
  .Verfahren zur Herstellung einer metallorganischen Schicht, mit diesem Verfahren hergestellte metallorganische Schichten und deren Verwendung.
  Patentanmeldung DE 10 2005 025 693.7 (4.Juni 2005)
• V. I. Zdravkov, A. S. Sidorenko, Th. Koch, Th. Schimmel:
  Steigerung der Manetfeldresistenz von MgB2-Schichten mit künstlichen Pinningzentren. 
  Moldawisches Patentamt a2008 017, Din 14.02.2008.
• V. I. Zdravkov, A. S. Sidorenko, Th. Koch, Th. Schimmel:
  Apparatur zur Herstellung von Magnesium-Diborid. 
  Mold. Patentamt a2005 0311.
• V. I. Zdravkov, A. S. Sidorenko, Th. Koch, Th. Schimmel:
  Methode zur Herstellung von Magnesium-Diborid.  
  Mold. Patentamt a2005 0310.
• S. Walheim, R. Hedderich, Th. Schimmel:
  Antireflexschicht auf reflektierendem Substrat.
  Patent DE 10 2004 015 177.6
  Patentanmeldung: 2004
• Th. Schimmel, Ch. Obermair und F.-Q. Xie:
  Gate-kontrollierter atomarer Schalter.
  Patenteinreichung DE 10 2004 043 811.0
  Patentanmeldung: 2004
• Th. Schimmel, M. Müller, Ch. Obermair, Th. Fiedler:
  Materialbearbeitung mit Präzision auf atomarer Skala.
  Deutsches Patent- und Markenamt, Aktenzeichen 100 16 478.1
• Th. Schimmel, Ch. Obermair, M. Müller, Ch. Klinke:
  Verfahren zur elektrochemischen Nanostrukturierung.
  Deutsches Patent- und Markenamt, Aktenzeichen 100 15 931.1
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
  Verfahren zur zeitlich stabilen Speicherung von Informationen im atomaren Bereich.
  O.Z. 0050/41616 - P 4015656.7 - OS-Nr. 457168
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
  Verfahren zur zeitlich stabilen Markierung einzelner Atome oder Atomgruppen
  einer Festkörperoberfläche sowie Verwendung dieses Verfahrens
  zur Speicherung von Informationseinheiten im atomaren Bereich.
  O.Z. 0050/41712 - P 4021077 - OS-Nr. 464537
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
   Verfahren zur zeitlich stabilen Markierung einzelner Atome einer Festkörperoberfläche
  sowie Verwendung dieses Verfahrens zur Speicherung von Informationseinheiten
  im atomaren Bereich.
  O.Z. 0050/41714 - P 4021076.6 - OS-Nr. 464538
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
  Verfahren zur chemischen Markierung von Festkörperoberflächen auf atomarer Skala
  sowie Verwendung dieses Verfahrens zur Speicherung von Informationseinheiten im atomaren Bereich.
  O.Z. 0050/42129 - P 4100254.7 - OS-Nr. 494415
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
  Verfahren zur Durchführung ortsselektiver chemischer Reaktionen mit oder auf
  Festkörperoberflächen im Nanometer- und Subnanometer-Bereich.
  O.Z. 0050/42585 - P 4126380.4 - OS-Nr. 527370
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
  Verfahren zur gezielten Modifikation und zur reversiblen Entfernung    kleinster Strukturen einer Festkörperoberfläche.
  O.Z. 0050/42487 - P 4120365.8 - OS-Nr. 519269;
• Th. Schimmel und H. Fuchs:
  Verfahren zur gezielten Modifikation von Festkörperoberflächen im Nanometerbereich
  durch lokale Delamination.
  O.Z. 0050/42590 - P 4126497.5 - OS-Nr. 527379;
• Th. Schimmel:
  Verfahren zur Analyse von Reibung mittels Rasterkraftmikroskopie.
  Deutsches Patent- und Markenamt, Aktenzeichen P 44 37 010.5;